预见2020:2020年中国CVD设备产业全景图(附产业政策、技术工艺、竞争格局等)
2020-08-24 阅读量:22 来源:机智网

产业链——集成电路关键制造设备之一

CVD(化学气相沉积)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。其一般应用于集成电路制造、粉末合成、金属精致等。

CVD设备则是CVD应用的载体,是实现CVD的必要条件。

图表1:CVD设备产业链示意图

图表2:CVD(物理气相沉积)在半导体产业链中的环节

产业政策——对于CVD设备重视程度较高

从政策环境上来看,我国对于CVD设备较为重视,其主要体现在相关政策对于发展半导体设备的支持。如《“十三五”国家科技创新规划》中,薄膜设备(PVD设备、CVD设备等)被列为国家需要攻克的高端制造装备;《中国制造2025》中也提到,要形成集成电路关键制造设备的供货能力。

图表3:我国CVD行业政策规划解读

技术工艺——工艺不断发展变迁

近年来,CVD工艺不断发展,形成了较为固定的工艺流程,同时也根据不同的应用演化出了APCVD、LPCVD、PECVD等不同的CVD技术。一般来说,不同的CVD技术需要不同的CVD设备来承载,一定程度上也促进了CVD设备制造工艺的发展。

图表4:CVD工艺演变历程

图表5:CVD流程简析

图表6:CVD技术对比

竞争格局——CR3达到70%

全球CVD设备市场的主要企业有应用材料、泛林半导体和TEL这三家,据Gartner披露,这三家企业合计占据了全球近70%的市场份额。其中,应用材料所占市场份额为30%;泛林半导体和TEL各自占据21%和19%。

图表7:2019年全球CVD设备市场竞争格局(单位:%)

细分格局——PECVD仍为主流

目前全球主流的CVD设备仍为PECVD、APCVD和LPCVD,据Gartner数据披露,这三类CVD设备合计市场份额约占总市场份额的70%;其中PECVD的市场份额约为35%。

图表8:全球CVD设备市场细分产品竞争格局(单位:%)

国产化分析——相关技术仍需进步

我国CVD设备的国产化率近年来虽然在不断增长,但整体来看仍然较低。从长江储存2017年至2020年2月CVD设备累计招标采购份额来看,仅有3%的CVD设备来自于我国国产企业(沈阳荆拓),由此可见,我国CVD设备竞争力与海外知名企业相比仍具有一定的差距。

目前我国CVD设备的主要生产企业包括北方华创和沈阳荆拓,这两家企业近年来发展势头较好,CVD设备相关技术也正在加紧研发中,未来或将成为我国CVD设备国产化率大幅提升的主要动力源。

图表9:长江储存2017-2020年2月CVD设备累计招标采购份额(单位:%)

图表10: 我国CVD设备生产主要企业

以上数据来源于前瞻产业研究院《中国半导体产业战略规划和企业战略咨询报告》,同时前瞻产业研究院提供产业大数据、产业规划、产业申报、产业园区规划、产业招商引资等解决方案。

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